電子工業對高純氧氣的純度要求很高。
在半導體制造過程中，高純氧氣用于氧化工藝，在硅片表面生長質量高的氧化層，這層氧化層是制作晶體管、集成電路等元件的關鍵結構。高純氧氣的高純度保證了氧化層均勻、致密，無雜質污染，從而確保芯片性能穩定和可靠性高，滿足電子產品不斷向小型化發展的需求。
在液晶顯示器制造中，利用高純氧氣等離子體處理基板表面，能夠改善表面性能，提升液晶分子排列效果，提高顯示屏的清晰度與色彩還原度。高純氧氣在電子工業中的應用，有力推動了電子產品技術的持續創新與升級。
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高純氧氣通常以液態或氣態形式儲存和運輸。
液態氧氣儲存在低溫容器中，氣態氧氣則使用高壓鋼瓶或管道輸送。儲存和運輸過程中需注意防泄漏、防爆和防污染，確保氣體純度和安全性。在使用高純氧氣時，需嚴格遵守安全操作規程，遠離易然物，防止火災和暴炸。操作人員需接受培訓，熟悉高純氧氣的特性和應急處理措施。
此外，高純氧氣的生產設備需定期維護，防止泄漏和事故。通過嚴格的管理和技術措施，高純氧氣的儲存、運輸和使用將更加安全和可靠。
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高純氧氣如何安全儲存？
高純氧氣需儲存在專門的耐壓鋼瓶中，鋼瓶需定期檢測耐壓性。儲存環境應通風良好、遠離火源及易然物（如油脂、氫氣），溫度不超過30℃，避免暴曬或撞擊。
鋼瓶直立放置并固定，防止傾倒。嚴禁與還原性氣體混存，開關閥門時避免油脂接觸，以防燃燒暴炸。搬運時輕裝輕卸，禁止滾動或拋擲。
高純氧氣儲存區需配備滅火器材，操作人員需經培訓，避免誤操作導致泄漏。
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